フォトマスク用機材

生産歩留の向上と原価低減

微細化につれて、レチクルのパターンは、コンタミネーションに対しより影響を受けやすくなっております。予測不能な不良は、出荷、取り扱い、保管、ESDによるクローム配線への損傷、 パーテイクルの蓄積等の結果発生します。次世代のリソグラフの要求を満たすために、 Pozzettaのフォトマスク容器は、パーテイクルの低減、ESDを防止、また、アウトガスの低減 を目指して設計されております。予測不能な不良を阻止する事で、Pozzettaは、貴社の生産 歩留りの向上と原価削減を図ります。